热压法:把铟粉末在高温和高压下压制成型,能够提高靶材的致密度和机械强度,同时有助于减少气孔和其他缺陷。
冷等静压法:利用液压介质在室温下对铟粉末施加均匀压力使其成型,可制造出高密度和均匀性的靶材,但需要后续的烧结处理来提高其机械性能。
显示领域:广泛应用于液晶显示器(LCD)、有机发光二极管显示器(OLED)等显示器件的制造,用于形成透明导电薄膜,提高显示器的性能和质量。
平板显示(LCD/OLED/Micro-LED)
核心用途:制备透明导电薄膜(如氧化铟锡,ITO),作为显示面板的电极层和触控层。
LCD:用于玻璃基板的 ITO 薄膜,实现像素电极的导电功能。
OLED/Micro-LED:作为柔性基板(如 PI 膜)的透明电极,满足柔性显示对材料延展性的要求。
市场占比:全球超过 70% 的铟靶材用于显示面板生产,是 LCD/OLED 产业链的关键材料。
铟靶是现代电子信息、新能源、高端制造等战略性新兴产业的底层关键材料,其应用深度和广度直接反映一个国家在半导体、显示、光伏等领域的技术水平。由于全球铟资源稀缺(主要伴生于锌矿),且提纯工艺复杂,铟靶的供应链已成为各国关注的重点。未来,随着 5G、AI、新能源汽车等产业的爆发,铟靶的需求将持续增长,同时推动高纯铟(99.999% 以上)制备技术的不断突破。