闭环之困：损耗与机遇并存 ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
多种类回收技术如湿法冶金、火法冶金和物理分离法，提供了灵活的回收方式以适应不同的废物类型和规模需求。湿法冶金回收中，酸浸法通过使用盐酸或硫酸来溶解ITO废料，使得铟以In³⁺的形式进入溶液。随后，可以利用溶剂萃取、置换反应（例如，使用锌粉进行置换）或电解法来进一步回收铟。生物浸出法利用特定的微生物，如硫氧化，来选择性溶解铟。虽然这种方法环保，但目前其效率相对较低，仍处在研究阶段。火法冶金回收中，高温熔炼将含铟废料与还原剂（例如焦炭）一同进行高温熔炼。在熔炼过程中，铟会富集在烟尘或熔渣中，随后需要进一步的二次处理来进行提纯。这种方法适用于大规模的回收操作，但能耗相对较高。
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积（PVD）工艺中，制造薄膜。然而，铟靶材的成本高昂，且供应有限，因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
总体来看，ITO靶粉回收是一项技术成熟、效益显著的工作。通过合理的工艺设计和严格的管理，不仅可以节约资源、降低生产成本，还能减少对自然环境的压力。未来，随着技术的进步和环保意识的提升，这一领域有望得到更广泛的应用和发展。