闭环之困:损耗与机遇并存
ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右,大量含铟废料(废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料)随之产生。过去,这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系,成为破解资源约束的黄金路径。
铟在半导体、液晶显示器等电子器件的生产中发挥着重要作用。铟靶材通常用于物相沉积(PVD)工艺中,制造薄膜。然而,铟靶材的成本高昂,且供应有限,因此从废弃或用过的靶材中回收铟变得至关重要。
在分离铟和其他金属和材料时,可以采用几种方法,包括选择性溶解、溶剂萃取、离子交换和沉淀。选择性溶解使用化学浸出剂选择性地溶解铟,而保持其他金属和材料不变。溶剂萃取使用有机溶剂选择性地提取铟。离子交换则通过树脂吸附铟离子,同时留下其他离子。沉淀法使用化学试剂使铟从溶液中沉淀出来,而将其他金属和材料留在溶液中。
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